پاورپوینت کامل و جامع با عنوان پوشش دهي سطح فلزات به دو روش Sol Gel و كاشت يون با پلاسما در 26 اسلاید - دانلود فایل

دانلود فایل پاورپوینت کامل و جامع با عنوان پوشش دهی سطح فلزات به دو روش Sol Gel و کاشت یون با پلاسما در 26 اسلاید

دانلود فایل پاورپوینت کامل و جامع با عنوان پوشش دهي سطح فلزات به دو روش Sol Gel و كاشت يون با پلاسما در 26 اسلاید

فرایند سل-ژل (به انگلیسی: Sol-gel) که همچنین با نام رسوب دهی محلول شیمیایی (به انگلیسی: Chemical Solution Deposition) از آن یاد می شود، یک روش شیمی تر است که درمهندسی و علم مواد و مهندسی سرامیک به طور گسترده استفاده می شود. این روش معمولاً برای تولید مواد (به عنوان مثال اکسید فلزات) با شروع از یک محلول کلوئیدی (سل) که به عنوان پیش ماده برای یک شبکه به هم پیوسته (ژل) از ذرات گسسته یا پلیمرهای شبکه ای است، بکار می رود. پیش ماده های معمول شامل آلکوکسید و نمک فلزات (از قبیل کلریدها، نیتریدها و استات ها) هستند که تحت واکنش های مختلف هیدرولیز و بسپارش مرحله ای قرار می گیرند.
کاشت یون (به انگلیسی: ion implantation) فرایندی در مهندسی مواد است که در آن یون های برخی مواد را می توان در ماده ای دیگر کاشت و ویژگی های فیزیکی آن ماده را تغییر داد. این فرایند در ساخت نیمه رساناها و پرداخت فازها کاربرد دارد.
برای کاشت یون، نیاز به یک منبع یون است که با به بکاربردن شتاب دهنده ذره ای یون ها را می توان با سرعت زیاد روی سطح مورد نیاز کاشت. هر یون یک اتم یا مولکول است بنابراین مقدار یون انباشت شده روی سطح برابر با انتگرال جریان بر حسب زمان خواهد بود و به این مقدار دز گفته می شود. از آنجاکه در کاشت یون جریان در حد میلی آمپر است، دز یون کاشته شده مقدار کمی ست.
انرژی یون های تابشی پیرامون ۱۰ تا ۵۰۰ کیلو الکترون ولت است. انرژی یون، مادهٔ یون و سطح تعیین گر میزان عمق نفوذ یون روی سطح اند و بین ۱۰ نانومتر تا ۱ میکرومتر است.

فهرست مطالب:
چكيده
روش هاي مختلف پوشش دهي
روش پاشش حرارتی
روش رسوب دهي شيميايي بخار
لايه نشاني الكتروليتي كاتد
روش نيتروراسيون
روش سل- ژل
انواع ژلها
انواع فرآيند سل ژل
مزايا و معايب روش سل- ژل
پلاسما اسپري
نيتروژن دهي پلاسمايي توري فعال
نتايج

کاشت یون

پلاسما

پوشش دهی

سل ژل

CVD

مقاله